Hasselblad Masters Award 2009

Master 2009, Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA/ Caracas, Venezuela

19 stycznia Hasselblad ogłosił nazwiska zwycięzców prestiżowego konkursu Hasselblad Masters Award 2009. Zwycięzcami w poszczególnych kategoriach zostali:

• Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
• Wedding: Joao Carlos, NYC, USA
• Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
• Fashion: Dirk Rees, London, England
• Product: Mark Holthusen, San Francisco, USA
• Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
• Architecture: Stephan Zirwes, Stuttgart, Germany
• Landscape: Bang Peng, Hong Kong
• Editorial: Nina Berman, NYC, USA
• General: Mark Zibert, Toronto, Canada

Master 2009, Editorial: Nina Berman, NYC, USA

W tym roku do konkursu swoje prace zgłosiło blisko 3000 fotografów (prawie dwukrotnie więcej niż 2008 roku). Jury, w którym znaleźli się m.in: Steve McCurry (USA), Anton Corbijn (Holandia) i Tim Flach (Wielka Brytania) podkreślało wysoki poziom nadesłanych prac. Ostatecznej selekcji dokonywali spośród setki zdjęć, z których wszystkie należały do utalentowanych twórców. Każdy ze zwycięzców będzie miał dostęp do flagowego modelu aparatu systemowego Hasselblada H4D. Ponadto Hasselblad wyda książkę "Masters Vol. 2-Emotion", w której znajdą się prace nagrodzonej dziesiątki, a w trakcie targów Photokina w Kolonii odbędzie się duża wystawa.

PANASONIC LUMIX S1R II - raty 20 x 0%

15 499 zł

SONY FE 400-800 MM F/6.3-8 G OSS - raty 20 x 0%

13 299 zł

OM SYSTEM OM-3 - 5 lat gwarancji

8 499 zł

NIKON NIKKOR Z 35 MM F/1.2 S - przedsprzedaż

13 999 zł

Canon EOS R5 II + raty 20 x 0 %

20 499 zł

Master 2009, Wedding: Joao Carlos, NYC, USA

Master 2009, Product: Mark Holthusen, San Francisco, USA

Master 2009, General: Mark Zibert, Toronto, Canada

Zobacz wszystkie zdjęcia (10)